当社の主なR&D活動

合成ダイアモンドの研究開発の分野における当社の長年のリーダーシップをビジネス力・投資力と結合することにより、スマート技術の新時代の基礎を築きます。

CVD(chemical vapor deposition, 化学気相蒸着)合成ダイヤモンド

CVD成長法により成長のプロセスをコントロールし、合成ダイヤモンドの物性を処理します。お客様のご希望に合わせてダイヤモンド製品を開発・製造するために、その物性を設計します。

高純度単結晶ダイヤモンド

ドーピングされたダイヤモンド構造(B、N、Ge、P、レアアース金属)

NV・SiVセンター、単一光子源

同位体濃縮ダイヤモンド構造

20mmまでの単結晶ダイヤモンド

単・多結晶ダイヤモンド合成用の高性能CVD装置の開発・製造

合成パラメータのコントロールによりダイヤモンドの物性を処理できる新世代の真空成長装置。基板のサイズは8インチまで

合成ダイヤモンドの工業的なコントロールされたドーピング用の付加的な成長装置と技術

レーザー応用技術

バルクおよび表面のダイヤモンド基板処理・微細構造化用のピコ・フェムト秒レーザーの開発。
レーザーの詳細:高エネルギーパルス(10~200μJ)、高周波(1~10MHz)。
ダイヤモンドのマイクロプロファイリング技術。回折光学素子や光学結晶等の多様な高付加価値製品の開発を可能にする1D・2D・3D構造の作製。

電子回路作製用のエキシマレーザーリソグラフィー装置。最初の試作品を開発し、試験しました。

工業用ダイヤモンド基板処理技術の開発

CMP(chemical mechanical polishing、化学機械研磨)と表面プロファイリング技術

マイクロドリル加工とマイクロ切削

レーザー表面プロファイリング・レプリカ法による表面微細構造化

ダイヤモンド上の1D・2D・3Dレーザープロファイリング微細構造技術

分析装置開発

熱伝導率測定ベンチ

成長中のダイヤモンド膜の厚さ・蒸発速度の測定用の装置

ダイヤモンド基板の光学吸収係数測定ベンチ